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高纯金属镍靶材 Ni靶材 磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料
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- 高纯金属镍靶材 Ni靶材 磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料 纯度:99.99% 中文名 镍 原子序数 28 原子量 58.69 密度 8.902克/立方厘米 熔点 1453℃ 沸点 2732℃ 标签: 镍靶材 Ni靶材 镍靶材 Ni靶材 北京市高纯金属 北京市高纯金属厂家
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